XAD-μ採用多導毛細聚焦XRF應用多導毛細管技術，輕鬆應對超小測量點薄塗層和極薄塗層的測量分析，在軟性電路板、晶片封裝、晶圓微區的鍍層厚度和成分自動測試分析中盡顯優勢,主要利用X射線全反射原理，從X射線管激發出來的X射線束在毛細玻璃管的內壁以全反射的方式進行傳輸，利用毛細玻璃管的彎曲來改變X射線的傳輸方向，從而實現X射線彙聚，同時將X射線的強度增加2～3個數量級。
多導毛細聚焦光學元件的光束尺寸可小至5um
微聚焦X射線管根據樣品激發效果選擇不同靶材* 可選靶材：W、Ag、Mo、Cr、Rh,
X射線源高壓分檔靈活控制：出廠默認30 kV、40kV、50 kV，可根據實際要求設置濾光片：搭配四種濾光片，電機自動切換
X射線接收器：大面積SDD矽漂移 25 mm2探測器
可選配50 mm2 、75 mm2探測器
無需二次濾波
測試時間可縮短至1 s極低噪音、
檢測納米級厚度、ppm含量
檢測更廣的元素探測範圍